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技術資訊
隨著半導體技術的快速發展,集成電路(IC)的制造工藝變得越來越精密,尤其是在薄膜沉積和刻蝕等工藝中,厚度控制顯得尤為重要。紅外干涉測厚儀作為一種高精度的非接觸式測量工具,在半導體制造過程中得到了廣泛應用。其原理基于紅外干涉現象,通過反射光波與薄膜表面之間的相位差來實現對薄膜厚度的測量。以下將分析紅外干涉測厚儀在半導體制造中的應用及優勢。1、高精度厚度測量在半導體制造中,薄膜的厚度對器件的性能具有直接影響。例如,在光刻、化學氣相沉積(CVD)、原子層沉積(ALD)等過程中,薄膜...
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頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產品。光譜橢偏儀ME-L穆勒矩陣橢偏儀ME-L是一款全自動高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀,擁有行業前沿的光路調制技術,采用半導體制冷式探測器,具有超高靈敏度和極快的信號采集速度,同時也包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。ME-Mapping光譜橢偏儀ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿足大尺寸晶圓的多點自動化掃描測量需求,自定義繪制測量路徑,支持實時顯示膜厚分布以及數據匯總。設備采用雙旋轉補償器調制技術,直接測...
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橢偏儀在AR衍射光波導行業中的應用AR衍射光波導是什么?目前,市面上較成熟的AR光學顯示方案主要有棱鏡方案、Birdbath方案、自由曲面方案和光波導方案等。各方案都有不同維度上的側重,但真正滿足AR產品需求的光學方案其實并不多。AR光學顯示方案特點缺點棱鏡方案可實現全彩顯示,技術成熟,價格便宜FOV不夠大,AR體驗感不強,無法做成眼鏡形態自由曲面方案成像色彩飽和、視場角大、功耗較低,體積適中比普通眼鏡更厚、重,外界透光率較低、圖像容易畸變Birdbath方案結構簡單、門檻低...
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目錄01平板顯示行業測量介紹02平板顯示行業的量測意義03平板顯示行業的測量解決方案01平板顯示行業測量介紹平板顯示器件于20世紀60年代出現,主要包括液晶顯示器、發光二極管、等離子顯示板、電致發光顯示器等。目前液晶顯示LCD(LiquidCrystalDisplay)與有機電致發光顯示OLED(OrganicLight-EmittingDiode)為平板顯示行業主要顯示技術,占據行業絕大部分產值。檢測是面板生產過程的必要環節。面板顯示檢測的作用是在面板顯示器件的生產過程中進...
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教學橢偏儀是一種精密的光學測量儀器,正確的維護保養對于延長其使用壽命、確保測量精度至關重要。以下是一些關鍵的維護保養方法。1、日常清潔保持儀器的清潔是維護的基礎。每次使用后,應使用干凈、柔軟的鏡頭紙或棉簽輕輕擦拭儀器的光學元件表面,如透鏡、反射鏡等,去除可能沾染的灰塵、指紋等污漬。注意擦拭時要沿著同一方向,避免來回摩擦造成劃傷。對于儀器外殼和其他非光學部件,可用干布擦拭,清除表面的灰塵和雜物。2、防潮防塵教學橢偏儀對環境濕度和灰塵較為敏感。應將儀器放置在干燥、通風良好的環境中...
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